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电子束镀膜机加装霍尔离子源

上海伯东客户某生产光学镜片公司采购美国 KRI 考夫曼公司大尺寸霍尔离子源 EH 2000 加装于电子束镀膜机用于望远镜用金属零部件 IBAD 辅助镀膜!

上海伯东电子束镀膜机加装离子源典型案例: 根据客户 Φ1.2m 镀膜腔体尺寸, 基材尺寸和工艺条件, 推荐选用霍尔离子源 eh2000 HC, 配置中空阴极, 中和器, 自动控制器

1. 设备: Φ1.2m 电子束镀膜机.

2. 基材:望远镜用零部件, 镀铝 Al, 外层镀一层二氧化硅 SiO2, 做为保护膜

3. 加装霍尔离子源: eh2000HC, 通氧气

3. 离子源条件: Vb:120V ( 离子束阳极电压 ), Ib:14A ( 离子束阳极电流 ), O2 gas:45sccm( 氧气 ).

4. 离子源应用: 望远镜用零部件镀金属膜

美国 KRI 霍尔离子源 eh2000HC 主要技术规格

尺寸: 直径= 5.7“ 高= 4”
放电电压 / 电流: 50-250V / 15A
可通气体: Ar, O2, N2,H2
离子束发散角度：> 45° (hwhm)
水冷

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134