KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用05-31更新
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伯东公司 KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用
常见蒸镀机台与对应 KRI 霍尔离子源型号：
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蒸镀机台尺寸 |
KRI 离子源 |
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~1100mm |
eH1010 |
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1100~1400mm |
eH1010, eH1020 |
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1400~1900mm |
eH1020, eH3000 |
KRI 考夫曼霍尔离子源 controller 自动化控制及联机自动化设计，提供使用者在操作上更是便利。
KRI 考夫曼霍尔离子源 Gun body 模块化之设计、提供使用者在于基本保养中能够降低成本及便利性。
伯东公司客户 1400 mm 蒸镀镀膜机安装 KRI考夫曼霍尔离子源 EH1020 F，应用于塑料光学镀膜。
KRI 考夫曼霍尔离子源 EH1020 主要参数:
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Filament Controller |
Discharge controller |
Gas controller |
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17.2A/ 22V |
150V/ 4.85A |
Ar/ 32sccm |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134